Ipari adszorbensek:
aktivált szén, szilikagél, alumínium-oxid.
Nagy fajlagos felülettel
rendelkeznek.
A gázadszorpció szükségszerűen exoterm,azaz növekvő hőmérséklet csökkenő adszorpcióhoz vezet egyensúlyban.
Az entrópia csökken!
Adszorpció
monomolekulás
adszorbens
adsorption desorption
p
többrétegű kondenzáció
Vad (p)
A fajlagos adszorpció nyomásfüggő (p)
Adszorpciós izotermák: hogyan függ Vad a nyomástól (p)
p
Meghatározhatjuk az adszorbens fajlagos felületét, és felvilágosítást nyerhetünk a felület polaritásáról, a
molekulákkal való kölcsönhatásról.
A fajlagos adszorpció (χ) meghatározása:
Állandó T és V, mérik az egyensúlyi
nyomásváltozást
ads des
v v
1 1
ads a
v k p v
des k
2 aLangmuir izoterma
v
adsv
desp K
p K
ad ad
a
1 K
ad k k
1/
2Homogén felület, monorétegű adszorpció állandó hőmérsékleten.
p
0
a 1
Felületi borítottságLinearizálva:
as: fajlagos felület (m2/g)
φ: adszorptívum fajlagos felületigénye (m2/mol)
Pórusos adszorbensek pórusméret eloszlása, I
Pórusátmérő > 50 nm Makropórus
(IUPAC) 2 – 50 nm Mezopórus
< 2 nm Mikropórus Gőzadszorpciós módszer: kapilláris kondenzáció (adszorpciós hiszterézis, IV. típusú izoterma)
Kondenzáció (ΘA) Deszorpció (ΘR)
Deszorpciókor a görbületi sugár kisebb, és megegyezik a (hengeres) pórusok belső sugarával (tökéletes nedvesítés)!
Következmény: adszorpciós hiszterézis és a pórusméret deszorpció mérésével való meghatározása.
Tehát csökkenő nyomásnál mérik a fajlagos adszorpciót vagy az adszorbeált mennyiség térfogatát
Kelvin-egyenlet:
RT ln (P
r/P
∞) = CγV
C = 2/r
A hiszterézis másik magyarázata geometriai eredetű:
tintásüveg-effektus
r = r
kPórusos adszorbensek pórusméret eloszlása, II
Hg-porozimetria (hengeres pórusmodell) Vákumozás után mért mennyiségek:
Bepréselt Hg térfogata (V) Alkalmazott nyomás (p)
Ismerni kell a Hg felületi feszültségét és peremszögét a kérdéses felszínen.